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1、真空的定義真空系統指低于該地區大氣壓的稀簿氣體狀態2、真空度處于真空狀態下的氣體稀簿程度，通常用“真空度高”和“真空度低”來表示。真空度高表示真空度“好”的意思，真空度低表示真空度“差”的意思。3、真空度單位通常用托（Torr）為單位，近年上取用帕（Pa）作為單位。1托＝1/760大氣壓＝1毫米汞柱

前級泵抽速選擇排氣口壓力低于一個大氣壓的傳輸泵如擴散泵、油增壓泵、羅茨泵、渦輪分子泵等，它們工作時需要前級泵來維持其前級壓力低于臨界值，選用的前級泵必須能將主泵的zui大氣體量排走，根據管路中，各截面流量恒等的原則有：PnSg≥PgS或Sg≥Pgs/PnSg－前級泵的有效抽速(l/s)Pn－主泵臨界前級壓強(zui大排氣壓強)(l/s)Pg－真空室zui高工作壓強(托)S－主泵工作時在Pg時的有效抽速。(l/s)

擴散泵抽速計算公式：S＝Q/P＝(K·n)/(P·t)(升/秒)式中：S－被試泵的抽氣速率(l/s)n－滴管內油柱上升格數(格)t－油柱上升n格所需要的時間(秒)P－在泵口附近測得的壓強(托)K－滴管系數(托·升/秒)K＝V0·(L/n)·(Υ0/Υm)+Pa△Vt其中V0－滴管和真空膠管的原始容積(升)L－滴管刻度部分的長度(mm)n－滴管刻度部分的格數(格)Υ0－油的比重(克/厘米3)Υm－汞的比重(克/厘米3)Pa－當地大氣壓強(托)△Vt－滴管的刻度上的一格的對應的容...

INFICON電容薄膜規的特點：1、以可靠的超純陶瓷傳感器室為基礎構成2、在嚴酷和腐蝕性環境中,穩定與可靠的高精度壓強測量3、快速的預熱和恢復時間,提高生產率4、的長期穩定性,再現性和重復性5、由于電子學直接安裝在傳感器上,改進了溫度補償和EMC兼容性6、對環境條件變化的敏感度的降低使得測量更穩定7、快速預熱在開機的一分鐘內達到快速穩定和進入準備使用狀態8、一鍵按鈕:調零功能和設點調整9、抗腐蝕超純陶瓷傳感器10、能經受數百萬次壓強循環周期,包括大氣壓沖擊,無任何降低性能的跡...

真空系統常用名稱(1)主泵：在真空系統中，用于獲得所需要真空度來滿足特定工藝要求的真空泵，如真空鍍膜機中的油擴散泵就是主泵。(2)前級泵：用于維持某一真空泵前級壓強低于其臨界前級壓強的真空泵。如羅茨泵前配置的旋片或滑閥泵就是前級泵。(3)粗抽泵：從大氣壓下開始抽氣，并將系統壓力抽到另一真空泵開始工作的真空泵。如真空鍍膜機中的滑閥泵，就是粗油泵。(4)維持泵：在真空系統中，氣量很小時，不能有效地利用前級泵。為此配置一種容量較小的輔助泵來維持主泵工作，此泵叫維持泵。如擴散泵出口處...

加熱型薄膜規壓力使膜片變形，變形量與壓力大小成比例關系,通過測量不同壓力下的陶瓷膜片的變形量測量真空度1、零飄極小0.1%FS/年（干凈真空環境）2、更高的精度3、環境溫度變換/環境壓力變化/環境氣流變化對精度無影響4、比工藝更快的預熱啟動時間’5、快速恢復時間大氣壓6、任意安裝角度7、抗污染，可有效抵抗工藝氣體或工藝產生氣體的腐蝕影響

電容薄膜規要求高的應用條件下，而快速的壓強測量1、用于刻蝕，CVD,PVD,ALD半導體設備制造，如太陽能光伏行業的PECVD用的很多，刻蝕上一般用陶瓷型的CDG025D-X3比較多，抗污染性能比較好。一般國內用的PECVD還有多晶爐上用的MKS的電容薄膜規622A/626A/627D和INFICON的CDG025D比較多，如德國Ruth&Rau公司的PECVD設備標配產品為MKS的626B13TDE和627D01TDC1B,質量流量計用的是1179BX23CR14VSPC1...

INFICON皮拉尼真空計應用行業1.各種高真空泵的前級壓力測量，如光伏，鍍膜，等離子行業2.各種中低真空測量，如照明，冶金3.真空連鎖控制，高真空計的點火開關控制，如PEG1004.PSG050可*替代TR211，PSG051可*替代TR2165.PCG400PCG410(現在已升級為PCG550，PCG400/PCG410已經停產)與PSG500基本相同，但彌補了皮拉尼規大氣測量段精度不足的弱點，而且不受氣體類型的影響，在真空爐，單晶爐，多晶爐，藍寶石爐上廣泛應用6.PS...

皮拉尼真空計具體型號lPSG050/051lPSG100-SPSG101-SlPSG500/500-SPSG502l皮拉尼電容膜片復合真空計PCG400PCG410PCG5501.有皮拉尼規與特制的陶瓷薄膜規合成在一起2.兩種原理的規管全過程都工作3.100mbar—1000mbar使用薄膜規信號4.1mbar–100mbar兩規信號同時采用5.5x10-4mbar–1mbar采用皮拉尼信號6.輸出的真空度信號（電壓）連續，無跳躍

INFICON石英監控器晶體用于真空應用的石英監控器晶體石英晶體是QCM系統中的速率和厚度傳感元件。這些晶體用于所有標準INFICON監控器或控制器以及INFICON（或其他制造商的）單、雙或多晶體傳感器的真空應用。INFICON推出各種晶體和包裝，可隨時為您提供所需的晶體。標準AT切割的1in.(25.4mm)直徑晶體主要用于INFICONRQCM（石英晶體微天平研究系統）和PLO-10i系統的研究應用。這些研究晶體設計用在INFICON牢固且使用方便的晶體支架上，對沉積薄...

INFICON電容薄膜規CDG025D/045D/100D可以*替代美國MKS電容薄膜規622A/626A/627D/628D，例如：622A11TDE,626A11TDE,626B13TDE,626B01TDE,627D01TDC1B

美國MKS流量計INSTRUMENTS成立于1961年，作為半導體零部件的供應商，在氣體、真空儀器及制程控制應用等方面有技術獨到之處，美*機儀器MKSInstruments產品起源于壓力測量和控制核心技術，延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應氣體發生器及真空技術，其產品廣泛地應用于各種半導體生產設備和制造過程中。美國MKS產品包括：美國MKS流量計、MKS薄膜真空計、MKS流量控制閥。代表型號：AX7690,AX3060,AX7610,AX...